低電流密度區(qū)鍍層陰暗可能是鍍液溫度太高，電流密度太小，主鹽濃度太低；
次級(jí)光亮劑過(guò)多或鍍液中有銅、鋅雜質(zhì)引起的；中電流密度區(qū)鍍層陰暗可能是由次級(jí)光亮劑太少，有機(jī)雜質(zhì)過(guò)多或有一定量的鐵雜質(zhì)造成的；
高電流密度區(qū)鍍層陰暗可能是鍍液pH太高，初級(jí)光亮劑太少或鍍液中有少量的鉻酸鹽、磷酸鹽及鉛雜質(zhì)引起的。
此外，鍍前處理不良，鍍件表面有堿膜或有機(jī)物吸附膜，或者底鍍層不好也會(huì)導(dǎo)致鎳層出現(xiàn)陰暗的現(xiàn)象。
分析這類故障，可以取鍍鎳液先做赫爾槽試驗(yàn)，假使多次試驗(yàn)，赫爾槽的陰極樣板上鍍層狀況良好，沒(méi)有出現(xiàn)陰暗的現(xiàn)象，
那么電鍍時(shí)出現(xiàn)的故障，可能是鍍前處理不良或底鍍層不好造成的，應(yīng)該認(rèn)真檢查電鍍前的情況。
若赫爾槽試驗(yàn)所得的陰極樣板上出現(xiàn)低電流密度區(qū)鍍層陰暗，則可以根據(jù)前面提到的可能原因進(jìn)行分析。
中、高電流密度區(qū)鍍層陰暗，也可用類似的方法進(jìn)行試驗(yàn)，這里不再贅述。
